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中國工程院院士丁榮軍:第三代半導體技術(shù)未來十年復合增速將超20%

時間:2023-06-29 12:12:27    來源:上海證券報·中國證券網(wǎng)    


(資料圖)

上證報記者俞立嚴攝

上證報中國證券網(wǎng)訊(記者俞立嚴)6月29日,在浙江瑞安召開的2023國際新能源智能網(wǎng)聯(lián)汽車創(chuàng)新生態(tài)大會上,中國工程院院士丁榮軍表示,以碳化硅為代表的第三代半導體技術(shù)(包括Si-IGBT與SiC二極管相結(jié)合的技術(shù))已經(jīng)開始獲得應用,并具有很大的性能及市場潛力,將在未來十年獲得高達年復合20%以上的快速增長。

丁榮軍指出,在電動汽車的應用驅(qū)動、性價比權(quán)衡、消費慣性等因素影響下,未來十年Si-IGBT仍將是功率半導體器件的主流,并將與碳化硅功率器件長期并存。

丁榮軍預測,隨著硅基材料逐漸逼近其物理極限,功率半導體將朝著更高的禁帶寬度、熱導率和材料穩(wěn)定性等方向發(fā)展,功率器件技術(shù)演進將助力新能源汽車向高性能、充電快、長續(xù)航等方向發(fā)展。

(文章來源:上海證券報·中國證券網(wǎng))

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